Utilizing proprietary technologies of Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy (TDLAS), FPI delivers the LGA system to satisfy in-situ measurements with high accuracy, fast response, strong reliability and virtually maintenance free.
FPI LGAシステムは、ほとんどの工業プロセスに適用でき、特に高温、高圧、粉塵、腐食性物質、汚染物質が混在する過酷な条件下で実証済みです。.
Utilizing proprietary technologies of Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy (TDLAS), FPI delivers the LGA system to satisfy in-situ measurements with high accuracy, fast response, strong reliability and virtually maintenance free.
FPI LGAシステムは、ほとんどの工業プロセスに適用でき、特に高温、高圧、粉塵、腐食性物質、汚染物質が混在する過酷な条件下で実証済みです。.
原則
TDLAS technology utilizes the principle that laser energy is absorbed selectively by gas to form an absorption spectrum. Laserbeams of specific wavelengths is emitted by semiconductorlaser, and when passes through the gas, the attenuation of the laserintensity is related with measured gas. The concentration can beobtained by measuring intensity attenuation.
| Parameter | Specification |
|---|---|
| コンポーネント | O₂, CO, CO₂, H₂O, H₂S, HF, HCl, HCN, NH₃, CH₄, C₂H₂, C₂H₄, CH₃I |
| 精度 | HF: 0.02ppm; HCl, NH₃, C₂H₂: 0.1ppm; H₂O, HCN: 0.3ppm; CH₄: 0.4ppm; C₂H₄, CH₃I: 0.6ppm; CO, CO₂: 10ppm; H₂S: 20ppm; O₂: 100ppm. |
| レンジ | HF: (0~5)ppm; C₂H₂, NH₃: (0~10)ppm; HCN: (0~30)ppm; CH₃I: (0~40)ppm; HCl, H₂O: (0~50)ppm; C₂H₄, CH₄: (0~60)ppm; CO, CO₂: (0~1000)ppm; H₂S: (0~2000)ppm; O₂: (0~1)%Vol., customized |
| 直線性 | ≦±1%F.S. |
| スパンドリフト | ≦±1%F.S./6 ヵ月 |
| 再現性 | ≦±1%F.S. |
| 応答時間 | T₉₀≤20s (Flow rate more than 1 L/min) |
| 予熱時間 | ≤15分 |
| 使用温度 | -30~60°C |
| 保存温度 | -40~80°C |
| パージガス | Instrument air, industrial N₂ (0.3~0.8)Mpa |
| サンプル圧力 | 0.5~3bar |
| サンプル温度 | -30~250°C |
| 封入率 | IP65 |
| Explosion-Proof | Ex d IIC T5 |
| 電源 | 100~240V AC |
| 消費 | ≤20W |
| Analog Inputs | 2ウェイ 4~20mA |
| アナログ出力 | 2 way 4~20mA; isolation, maximum load 750Ω |
| リレー出力 | 3 way relays, 24V/1A |
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