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FPIは、独自技術であるTDLAS（Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy）を活用し、高精度、高速応答、高信頼性、メンテナンスフリーを実現したLGAシステムを提供しています。.
FPI LGAシステムは、ほとんどの工業プロセスに適用でき、特に高温、高圧、粉塵、腐食性物質、汚染物質が混在する過酷な条件下で実証済みです。.
LGA-4000は、TDL（Tunable Diode Laser）技術に基づく信頼性の高いレーザーガス分析システムで、様々な有害物質（HF、NH3, H2S、HCI)を、高精度、高信頼性、事実上メンテナンスフリーでスタックエミッションから除去します。.
LGAシステムは、8,000台を超える設置実績を誇り、燃焼・安全制御、プロセス最適化、エネルギー回収、科学研究、環境モニタリングなどに幅広く使用されている。現在までに、冶金、製油所、石油化学、天然ガス、発電所、廃棄物焼却、セメントなど、ガス計測が必要な場面で採用されています。.
原則
TDLAS技術は、レーザーエネルギーがガスによって選択的に吸収され、吸収スペクトルを形成するという原理を利用している。半導体レーザーから特定の波長のレーザービームが放出され、ガスを通過するとき、レーザー強度の減衰が測定ガスに関係する。強度の減衰を測定することにより濃度を求めることができる。.
| コンポーネント | O₂, CO, CO₂, H₂O, H₂S, HF, HCl, HCN, NH₃, CH₄, C₂H₆, C₂H₄, CH₃I |
| 精度 | HF: 0.02ppm; HCl, NH₃, C₂H₂：0.1ppm; H₂O, HCN: 0.3ppm；; CH₄：0.4ppm; C₂H₆, CH₃I: 0.6ppm; CO, CO₂：10ppm; H₂S: 20ppm；; O₂:100ppm、室温、室圧で、1mの光学レンジを基準とする。. |
| レンジ | HF: (0~5)ppm; C₂H₆, NH₃: (0~10)ppm; HCN: (0~30)ppm；; CH₄：(0~40)ppm；HCl、H₂O：(0~50)ppm；C₂H₆、CH₃I：(0~60)ppm；; CO、CO₂：(0~1000)ppm；H₂S：(0~2000)ppm；; O₂：(0~1)%Vol、カスタマイズ。. |
| 直線性 | ≦±1%F.S. |
| スパンドリフト | ≦±1%F.S./6 ヵ月 |
| 応答時間 | ≤1s |
| 予熱時間 | ≤15分 |
| 使用温度 | -30~60°C |
| 保存温度 | -40~80°C |
| パージガス | 計装空気、工業用N₂：(0.3~0.8)Mpa |
| 封入率 | IP65 |
| 防爆 | Ex d IIC T5 |
| 電源 | 24V DC、220V ACはオプション |
| 消費 | ≤20W |
| アナログ出力 | 2ウェイ 4~20mA |
| リレー出力 | 3ウェイDC24V/1A |
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